Microscope de métrologie intégrant les nouvelles innovations dans le domaine de traitement d’image. Il permet des prises de mesure contrôlée numériquement afin d’atteindre des résultats d’une très grande précision.

•Unité de contrôle très maniable avec interface PC
•Table de translation jusqu’à 300 x 200 mm de mouvement
•Logiciel de métrologie E-MAX pour le traitement numérique des mesures
•Contrôle numérique de l’éclairage améliorant la reproductivité dimensionnelle
•Un Laser TTL optionnel permet l’ajustement focal avec une reproductivité de 0.5 μm

Système de mesure offrant la plus grande plateforme de la série NEXIV 1200 x 720 x 150 mm pouvant accommoder de très grande pièces . Intègre une illumination diacopique très puissante, une auto focalisation laser ultra précise et des fonctions de recherche très poussées. Plusieurs choix d’optiques sont offerts.

Système de mesure confocal conçu pour les besoins de métrologie complexe offrant une excellente précision sur l’axe Z indépendante de la nature des surfaces mesurées. Idéal pour les applications dans les semi-conducteurs, les microlentilles, les MEMS, panneaux, moulure et autres.

•Précision de lecture : 0.1μm
•Mouvement : 300 x 400 x 150 mm
•Précision de mesure : 1.5 + 4L/1000 μm
•Autofocus : 0.5 μm de précision
•Logiciel : Automesure incorporant lecture CAD

Système de mesure automatique sans contact avec une grande table de translation
650 x 550 mm conçu pour de grands échantillons et les inspections de masse en milieu de production. Disponible avec différents optiques de focalisation et de magnification pour couvrir un large éventail de champs de vision et de résolution.

•Lecture Min : 0.1 μm
•Poids Max d’échantillon : 30 kg
•Précision U1x U1y : 1.5 + 4L/1000 μm
•Axe Z : (1.5 + L/150) μm
•Hauteur Max d’échantillon : 150 mm